--- La fusión crea una compañía filial independiente que se centrará en el desarrollo de oportunidades de mercado para la nanotecnología
AUSTIN, Texas, 13 de febrero de 2014 /PRNewswire/ -- Molecular Imprints Inc. (MII), líder tecnológico y de mercado para sistemas y soluciones de nanopatrón, anunció hoy la firma de un acuerdo para vender sus negocios de semiconductores de equipamiento de litografía de impresión a Canon Inc. de Tokio, Japón. Canon actualmente fabrica y comercializa KrF excimer y las plataformas de iluminación de litografía óptica i-line. Canon comenzó a realizar investigación dentro de la tecnología de nanoimpresión en el año 2004 para entrar en el mercado del equipamiento de litografía para la disposición principal de alta resolución. Desde el año 2009, la compañía lleva poniendo en marcha el desarrollo conjunto con MII y un destacado fabricante semiconductor para la producción en masa usando la tecnología de litografía de impresión Jet and Flash(TM) (J-FIL(TM)) de MII.
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"Tras crear una alianza empresarial con Canon hace cuatro años con el objetivo de proporcionar una tecnología que permitiera una solución de nanolitografía de bao coste para la industria de los semiconductores, estoy muy contento de reconocer el enorme progreso que hemos conseguido en la búsqueda de este objetivo. Basándose en este éxito, la fusión eran el siguiente paso natural para nuestras compañías", destacó Mark Melliar-Smith, consejero delegado de Molecular Imprints.
En 2011 Canon lanzó la Fase IV de su Excellent Global Corporation Plan, en el que una de las estrategias incluyó el desarrollo de negocios por medio de la diversificación globalizada. "La adquisición de MII fortalecerá nuestra unidad empresarial 'Industry and Others'", declaró el responsable tecnológico de Canon, el doctor Toshiaki Ikoma. "Estamos muy ilusionados en relación a esta innovadora oportunidad de fabricación de semiconductores y estamos impacientes por crear una capacidad de desarrollo de tecnología avanzada en Austin, Texas".
Molecular Imprints se fundó basándose en la tecnología desarrollada en la University of Texas at Austin (UT) por medio de los profesores SV Sreenivasan y Grant Willson. En los últimos años, Molecular Imprints ha trabajado con Canon y otros socios de la infraestructura de la industria de los semiconductores para permitir que la industria siga con la Ley de Moore recorriendo los límites de la resolución y escalando la carga de los costes de la litografía óptica y EUV. La adopción inicial de J-FIL para su producción está prevista para la memoria avanzada FLASH en los próximos dos años.
Mientras que Canon guía a J-FIL hacia una fabricación de semiconductores avanzada, este acuerdo de fusión permite además la creación filial de una nueva compañía que mantenga el nombre original de "Molecular Imprints" y que cuente con la ventaja de disponer de un arranque extraordinario al mantener el personal clave y los derechos de forma conjunta siendo propiedad de Canon para la cartera IP de MII, además de múltiples plataformas del sistema que se han diseñado para apoyar la necesidad en marcha de la disposición de nanoescala en aplicaciones de electrónica de consumo y biomédicas. "Estamos impacientes por suministrar una solución de fabricación a nanoescala de bajo coste para los mercados de las pantallas, disco duro, biotecnología y otros mercados emergentes", explicó David Gino, responsable de operaciones de Molecular Imprints. Gino se convertirá en el consejero delegado de la nueva Molecular Imprints cuando la compañía se fusione justo antes del cierre del acuerdo de la fusión con Canon.
Se espera que la fusión termine para abril de 2014 tras las aprobaciones normales de los accionistas y del gobierno.
Acerca de Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) es líder tecnológico para sistemas y soluciones de nanopatrón de alta resolución y bajo coste de propiedad. MII ha mejorado su innovadora tecnología Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) para convertirse en líder mundial de mercado y líder de tecnología en soluciones de patrón de alto volumen para dispositivos semiconductores, al tiempo que permite los mercados emergentes en pantallas, energía limpia y biotecnología. MII permite los patrones a nanoescala por medio del despliegue de una solución de litografía de impresión que cuenta con un bajo coste y es ampliable a los niveles de resolución de sub-20 nanómetros.
Contacto empresarialPaul HofemannMolecular Imprints Inc.+1-512-225-8441phofemann@molecularimprints.com[mailto:phofemann@molecularimprints.com]
